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液相沉积类金刚石膜的沉积机理研究

Study on deposition mechanisn of diamond-like carbon films prepared by liquid-deposition

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【作者】 王红卫； 沈风雷； 孙敏； 闻荻江；

【Author】 Wang Hongwei~1,Shen Fenglei,Sun Min~2,Wen Dijiang(1.Material Engineering School,Suzhou University,Suzhou 215021,China;2.Depatment of Civil Engineering,SuzhouUniversity of Science and Technology,Suzhou 215011,China)

【机构】 苏州大学材料工程学院； 苏州科技学院土木系； 苏州大学材料工程学院 江苏苏州215021； 江苏苏州215021；

【摘要】 根据电化学的相关理论,提出了钛合金表面液相沉积DLC膜的反应机理,给出了可能电极过程,认为膜是通过甲基阳离子的亲电取代反应而不断生长。讨论了氢原子对金刚石结构的稳定作用,并解释了实验条件对膜结构和性能的影响。

【Abstract】 Deposition mechanism of DLC films prepared by liquid-deposition is suggested according to the theory of electro-chemistry.Electro-chemic equations are listed.The effect of hydrogen on stability of diamond and the influences of deposition condition on properties of DLC films are discussed.

【关键词】 类金刚石膜； 电化学； 亲电取代；
【Key words】 Diamond-like carbon films； Electro-chemistry； Electrophilic substitution；
【基金】 江苏省基础研究计划(自然科学基金)资助项目,项目编号:BK2001414
  • 【文献出处】 化学工业与工程技术 ,Journal of Chemical Industry & Engineering , 编辑部邮箱 ,2006年02期
  • 【分类号】O613.71
  • 【被引频次】4
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