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GaN基激光器电子阻挡层的优化分析

Optimization of the Electron Blocking Layer in GaN Laser Diodes

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【作者】 李倜潘华璞徐科胡晓东

【Author】 Li Ti,Pan Huapu,Xu Ke,and Hu Xiaodong~(State Key Laboratory for Microscopic Physics,Research Center for Wide Gap Semiconductors,School of Physics,Peking University,Beijing 100084,China)

【机构】 北京大学人工微结构和介观物理国家重点实验室北京大学宽禁带半导体研究中心 北京大学物理学院凝聚态和材料物理研究所北京大学人工微结构和介观物理国家重点实验室北京大学宽禁带半导体研究中心北京大学物理学院凝聚态和材料物理研究所北京100871

【摘要】 从载流子输运机制的角度,分析了影响GaN基激光器中有源区电流溢出的因素,对AlGaN电子阻挡层中Al组分和p型掺杂水平进行了优化.结果表明,当p型掺杂水平增高时,所需要的势垒高度减小,即Al组分减小.

【Abstract】 In view of the transport mechanism of electrical carriers,the factors involved in the current overflow in GaN-based laser diodes are analyzed,and the aluminum mole fraction as well as the p-doping concentration of the AlGaN electron blocking layer are optimized.The results indicate that the appropriate barrier height (the Al mole fraction) is lower when the p-doping concentration is higher.

【关键词】 半导体激光器GaNAlGaN电子阻挡层
【Key words】 semiconductor laser diodeGaNAlGaNelectron blocking layer
【基金】 国家自然科学基金(批准号:60477011,60476028,60406007,60276010);国家高技术研究发展计划(批准号2001AA313110,2001AA313060,2001AA313140,2005AA31G020)资助项目~~
  • 【文献出处】 半导体学报 ,Chinese Journal of Semiconductors , 编辑部邮箱 ,2006年08期
  • 【分类号】TN248
  • 【被引频次】2
  • 【下载频次】200
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