节点文献

集成电路工艺问题的SEM诊断

  • 推荐 CAJ下载
  • PDF下载
  • 不支持迅雷等下载工具，请取消加速工具后下载。

【作者】 王嵩宇； 单成国； 孙伯森；

【机构】 中国电子科技集团公司第四十七研究所； 中国电子科技集团公司第四十七研究所 辽宁沈阳110032； 辽宁沈阳110032； 辽宁沈阳110032；

【关键词】 集成电路工艺； SEM； 抗辐射加固； 薄层电阻； 晶向； 涂胶； 光刻机； 淀积； 电离辐射； 硅栅；
  • 【文献出处】 电子显微学报 ,Journal of Chinese Electron Microscopy Society , 编辑部邮箱 ,2005年04期
  • 【分类号】TN405
  • 【下载频次】100
打印本页
节点文献中：