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LDMOS的局部电热效应分析

Analysis of Local Electro-Thermal Effects of LDMOS Power Devices

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【作者】 李梅芝; 韦光萍; 陈星弼;

【Author】 Li Meizhi,Wei Guangping,and Chen Xingbi(School of Microelectronics and Solid-State Electronics,University of Electronic Science and Technology of China,Chengdu 610054,China)

【机构】 电子科技大学微电子与固体电子学院; 电子科技大学微电子与固体电子学院 成都610054; 成都610054; 成都610054;

【摘要】 分析了LDMOS(lateral DMOS)在一次雪崩击穿后的局部电热效应.提出并证明了等温分析和电热分析分别得到的LDMOS的触发点是不同的;分析了局部晶格温度在空间上的分布特点;并提出晶格温度弛豫时间会影响漏极电压弛豫时间.从而证明LDMOS工作于ESD(electrostatic discharge)保护的大电流区时,电热分析比等温分析的模拟结果与实验结果符合得更好.

【Abstract】 Local electro-thermal effects of LDMOS after the first avalanche breakdown are analyzed.The different trigger points of LDMOS’s intrinsic npn transistor by isothermal and non-isothermal methods are compared and analyzed.The space distributing characteristics of lattice temperature are described,and the influence of t_ temp(delay time of lattice temperature) on t_ drain(delay time of drain voltage) is proposed.Thus,it is shown that the simulation results of the non-isothermal method are more consistent with the experimental data than those of the isothermal method,under ESD stress conditions.

【关键词】 等温; 电热; 触发点; ESD; 晶格温度;
【Key words】 isothermal; non-isothermal; trigger points; ESD; lattice temperature;
【基金】 国家自然科学基金资助项目(批准号:60476036)~~
  • 【文献出处】 半导体学报 ,Chinese Journal of Semiconductors , 编辑部邮箱 ,2005年09期
  • 【分类号】TN386
  • 【被引频次】11
  • 【下载频次】263
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