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用于薄膜制备的射频宽束离子源的设计

Development of Broad Beam RF Ion Source for Thin Film Growth

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【作者】 尤大伟； 黄小刚； 任荆学； 李安杰；

【Author】 You Dawei*,Huang Xiaogang,Ren Jingxue and Li Anjie (Space Science and Application Research Center,Chinese Academy of Sciences,Beiji ng,100080,China)

【机构】 中国科学院空间科学与应用研究中心； 中国科学院空间科学与应用研究中心 北京100080研究员； 北京100080； 北京100080；

【摘要】 采用射频宽束离子源进行离子束辅助镀膜可以获得高性能的光学薄膜 ,已越来越得到人们的共识。本文对射频感应线圈的匹配、起弧及三栅离子光学的关键技术进行了重点考虑 ,并获得了稳定运行的高性能离子源。

【Abstract】 A novel type of broad beam radio frequency (RF) ion source has been developed to grow optical films by ion beam assisted deposition.Matching of the inductive co ils,discharge property of the ion source and the 3-grid optics were discussed.T he lab-made RF ion source displays stable and satisfactory performance.

【关键词】 射频； 离子源； 感应耦合等离子体；
【Key words】 Radio frequency； Ion source； Inductive couple plasma；
  • 【文献出处】 真空科学与技术学报 ,Chinese Journal of Vacuum Science and Technology , 编辑部邮箱 ,2004年06期
  • 【分类号】O484
  • 【被引频次】11
  • 【下载频次】357
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