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TiAlBN多元膜的性能与组织结构研究

Study of Performances and Microstructure of TiAlBN Films

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【作者】 谢致薇王国庆杨元政白晓军匡同春谢光荣胡社军

【Author】 Xie Zhiwei 1, Wang Guoqing 2, Yang Yuanzheng 1, Bai Xiaojun 1, Kuang Tongchun 3, Xie Guangyrong 1, Hu Shejun 1 (1.Faculty of Materials and Energy Sources,2.Faculty of Chemical Engineering and Light Industry, 3.Centre of Experiment and Research,Guangdong University of Technology,Guangzhou 510080,China)

【机构】 广东工业大学材料与能源学院广东工业大学轻工化工学院广东工业大学实验研究中心广东工业大学材料与能源学院 广东广州510643广东广州510080广东广州510643广东广州510643

【摘要】 采用电弧离子镀技术、TA5钛合金靶沉积TiAlBN薄膜 ,研究了这种多元膜的显微硬度、高温氧化性能和组织结构 ,结果表明 :这种多元膜具有优于TiN膜的显微硬度 ;不同于TiN膜的显微组织 ,其最显著的特征是存在一些细小的钛滴 ;双靶工作状态下 ,这些钛滴与膜之间的融合效果较好 ,膜层表面孔隙较少 ;薄膜具有TiN的面心立方结构 ,与TiN膜相比 ,具有更加明显的择优取向趋势。

【Abstract】 TiAlBN films have been deposited by cathode arc ion-plating with TA5 titanium alloy target. The performance and microstructure have been studied. The results show that the microhardness of the multi-component films is higher than that of TiN films. The films have better high temperature oxidation performance than that of TiN films. The microstructure of the multi-component films is quite different from TiN films. The microstructure of the multi-component films is characteristic of some small titanium droplets. The titanium droplets are combined with the films substrate and there are a few pores in the films surface in the condition of double targets. It is found that the preferred orientation exists in the films.

【关键词】 多元膜氮化物电弧离子镀
【Key words】 multi-component filmsnitridecathode arc ion-plating
  • 【文献出处】 钛工业进展 ,Titanium Industry Progress , 编辑部邮箱 ,2004年03期
  • 【分类号】TB43
  • 【被引频次】2
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