节点文献

铁电薄膜应用研究进展

Development in Application of Ferroelectric Thin Films

  • 推荐 CAJ下载
  • PDF下载
  • 不支持迅雷等下载工具,请取消加速工具后下载。

【作者】 徐文彬王德苗董树荣

【Author】 XU Wenbin WANG Demiao DONG Shurong (Department of Information and Electronic Engineering, Zhenjiang Universyity, Hangzhou 310027, China)

【机构】 浙江大学信息与电子工程学系浙江大学信息与电子工程学系 杭州 310027杭州 310027

【摘要】 简要综述了铁电薄膜在铁电存储器、MEMS系统、微波器件、光电器件等几个方面的典型应用,并对国内铁电薄膜的研究及发展作了概述。

【Abstract】 This paper briefly reviews the typical application of ferroelectric thin films in the domains of ferroelectric memory, MEMS, microwave devices and optical devices. Besides, it briefly discusses the research and development of the ferroelectric thin films in China.

【基金】 国家自然科学基金(50172042)
  • 【文献出处】 材料导报 ,Materials Review , 编辑部邮箱 ,2004年10期
  • 【分类号】TB383.2
  • 【被引频次】15
  • 【下载频次】509
节点文献中: