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一种基于SPLAT的离轴照明成像算法的研究与实现

A Study on SPLAT Based Imaging Algorithm for Off-axis Illumination and Its Implementation

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【作者】 付萍； 王国雄； 史峥； 陈志锦； 严晓浪；

【Author】 FU Ping1, WANG Guoxiong2,3, SHI Zheng3,CHEN Zhijin3, YAN Xiaolang3 (1 Dept Information Engineering, East China Institute of Technology, Fuzhou, Jiangxi, 344000, P R China; 2College of Electronics and Information Engineering, Anshan University of Science and Technology, Anshan, Liaoning, 114002, P R China;3 Institute of VLSI Design, Zhejiang University, Hangzhou, Zhejiang, 310027, P R China)

【机构】 东华理工学院信息工程系； 鞍山科技大学电子与信息工程学院； 浙江大学超大规模集成电路设计研究所； 浙江大学超大规模集成电路设计研究所 江西抚州　344000； 辽宁鞍山　114002； 浙江杭州　310027； 浙江杭州　310027；

【摘要】 如何提高光刻的分辨率已成为超深亚微米集成电路设计和制造的关键技术。文章简要介绍了分辨率提高技术之一的离轴照明的原理及其构造形式,介绍了部分相干的二维透射系统的仿真程序SPLAT的特点,并用SPLAT实现了一种新的照明结构,为实际开发光学邻近校正(OPC,OpticalProximityCorrection)仿真工具增加了新的功能。

【Abstract】 The principle of offaxis illumination (OAI) and its configurations are presented in the paper And the characteristics of the simulation routine SPLAT, which simulates twodimensional projection printing with partial coherence, are also describedBased on SPLAT, a new configuration of offaxis illumination has been implemented, which was used in developing practical simulation tools for optical proximity correction (OPC) to add new functions

【关键词】 光刻； 深亚微米IC工艺； 离轴照明； 光学邻近校正；
【Key words】 Photolithography； Deep Submicron IC Process； Off-axis illumination； Optical proximity correction；
【基金】 国家自然科学基金资助项目(60176015)
  • 【文献出处】 微电子学 ,Microelectronics , 编辑部邮箱 ,2003年03期
  • 【分类号】TN305.7
  • 【被引频次】6
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