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ASML公司光学光刻技术最新进展

Current Progress of Optical Lithography in ASML

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【作者】 张强； 胡松； 姚汉民； 刘业异；

【Author】 ZHANG Qiang,HU Song,YAO Han min,LIU Ye yi (Institute of Optics & Electronics,Chinese Academy of Sciences,Chengdu 610209,China)

【机构】 中国科学院光电技术研究所； 中国科学院光电技术研究所 成都610209； 成都610209； 成都610209；

【摘要】 荷兰ASML公司作为全球三大光刻机集成生产商之一 ,通过不断的技术创新 ,在全球光刻机市场上居于领先地位。在简单介绍光刻机基本工作原理和主要技术指标的基础上 ,详细分析了ASML公司在光学光刻技术方面的最新技术进展

【Abstract】 ASML is one of the three biggest providers of lithography system and has been becoming the leader in global lithography market through continuous technological innovation.The principles and specifications of the optical lithography system are introduced and the latest progress of optical lithography in ASML are analyzed.

【关键词】 ASML光刻机； 投影光刻物镜； 光学对准； 照明系统； 双平台扫描；
【Key words】 ASML； projection lithography lens； optical align； illumination system； dual stage scan；
  • 【文献出处】 微细加工技术 ,Microfabrication Technology , 编辑部邮箱 ,2002年03期
  • 【分类号】TN305.7
  • 【被引频次】55
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