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一种结构调整后的DSOI器件

A Modified DSOI Device

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【作者】 江波何平田立林林羲

【Author】 Jiang Bo,He Ping,Tian Lilin and Lin Xi(Institute of Microelectronics,Tsinghua University,Beijng 100084,China)

【机构】 清华大学微电子学研究所清华大学微电子学研究所 北京100084北京100084北京100084

【摘要】 提出一种改进的 DSOI结构 ,在保留 DSOI解决浮体效应和散热问题的基础上 ,能提高电路速度和驱动能力等器件性能 .采用不完全除去沟道下绝缘层的办法 ,使 DSOI器件的结构更接近 SOI.采用准二维器件模拟器MEDICI对结构进行模拟 ,结果证明这种改进后的结构使器件具有更优越的性能 .

【Abstract】 A new device structure called DSOI (drain/source on insulator) is proposed to alleviate the thermal transfer problem and floating body effects in SOI (silicon on insulator) device.The purpose of present work is to modify DSOI structure to get the best device electrical capability.Simulation results approve that this modified structure has better electrical performance than prototype.

【关键词】 SOIDSOIMOSFET器件结构模拟
【Key words】 SOIDSOIsimulationMOSFETdevice structure
【基金】 国家重点基础研究专项经费资助项目~~
  • 【文献出处】 半导体学报 ,Chinese Journal of Semiconductors , 编辑部邮箱 ,2002年09期
  • 【分类号】TN47
  • 【被引频次】7
  • 【下载频次】73
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