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钽及表面离子渗氮层在碱液中的腐蚀行为

Corrosion behavior of tantalum and its nitride in alkali solution

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【作者】 张德元； 许兰萍； 罗文； 曾卫军； 李放； 林勤；

【Author】 ZHANG De yuan 1,2 , XU Lan ping 2, LUO Wen 2, ZENG Wei jun 2, LI Fang 2, LIN Qin 1 (1. Department of Physical Chemistry, University of Science and Technology Beijing, Beijing 100083, P.R.China; 2. Institute of Applied Physics, Jiangxi A

【机构】 北京科技大学理化系； 江西省科学院应用物理研究所； 北京科技大学理化系 北京100083.江西省科学院应用物理研究所； 南昌330029； 北京10；

【摘要】 用SEM ,XPS对钽及表面离子渗氮层在充分搅拌的 5 0℃的 6 .5 %NaOH中腐蚀前后的表面进行了观察和分析。证明表面腐蚀产物为NaTaO3 和Ta2 O5。结合计算的腐蚀反应的电荷转移数 ,给出了钽在碱液中可能的腐蚀反应方程式。

【Abstract】 The surfaces of tantalum and its nitride were investigated by SEM and XPS before and after being corroded in fully stirring 6.5% NaOH solution at 50?℃. The results show that the corrosion products was mainly composed of NaTaO 3 and Ta 2O 5. The corrosion reaction formula has been given according to the corrosion products and the electric charge transfer number calculated. [

【关键词】 钽； 渗氮层； 腐蚀；
【Key words】 tantalum； nitride； corrosion；
  • 【文献出处】 中国有色金属学报 ,The Chinese Journal of Nonferrous Metals , 编辑部邮箱 ,2001年S2期
  • 【分类号】TG172
  • 【被引频次】1
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