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超高真空射频磁控溅射镀膜机(双室三靶)及其应用

Ultra-high Vacuum RF Magnetic Sputtering Plant(Double Chambers and Three Targets) and its Applications

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【作者】 尹洪禹； 吴作良； 谢文利； 杨森；

【Author】 YIN Hong yu 1, WU Zuo liang 2, XIE Wen li 1, YANG Sen 1 ( 1 Shenyang Vacuum Technology Institute, Shenyang 110042, China; 2 Shanghai Technology Physics Institute, Chinese Academy of Sciences, Shanghai 200083, China)

【机构】 机械工业部沈阳真空技术研究!辽宁沈阳110042； 中国科学院上海技术物理研究所!上海200083；

【摘要】 本文介绍了 JGP- 4 2 0型超高真空射频磁控溅射镀膜机的设计思想和研制过程 ,并讨论了在该机上进行硅片上沉积 Pt和 Si O2 膜层的实验情况。此文仅为此类机器及其工艺的发展提供一定的借鉴

【Abstract】 The design idea and research process of the ultra high vacuum RF magnetic sputtering plant, JGP 420 is introdnced in this paper. And also give the experiment status of Pt and SiO 2 film deposition on Si plate. Here provide certain reference to develop this kind of plant and their process.

【关键词】 超高真空； 磁控溅射； 薄膜；
【Key words】 ultra high vacuum； magnetic sputtering； film；
  • 【文献出处】 真空 ,VACUUM , 编辑部邮箱 ,2000年03期
  • 【分类号】TB43
  • 【被引频次】4
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