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PCVD法渗Si的研究

Research of Steel Infusing Silicon by PCVD Technique

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【作者】 王蕾周树清陈大凯

【Author】 WANG Lei, ZHOU Shu-qing, CHEN Da-kai (College of Materials and Metallurgy,Wuhan University of Science and Technology,Wuhan 430081,China)

【机构】 武汉科技大学材料与冶金学院!湖北武汉430081

【摘要】 为解决硅含量超过 3.5 %的硅钢片无法轧制成薄片的矛盾 ,探讨用等离子体化学气相沉积法 (PCVD法 ) ,在 (0 .1~ 0 .3) mm厚的普通硅钢片表面涂硅 ,然后进行短时间高温扩散 ,使硅钢片平均含硅量达 6 .5 % ,磁性能达到或超过冷轧取向硅钢片性能。

【Abstract】 To solve the problem that silicon content of silicon steel exceeding 3.5% may not be rolled into film,the surface of a plain silicon steel sheet with a thickness of 0.1mm~0.3mm is painted with silicon by PCVD and then treated at a high temperature for a short time.At the end of the process,the silicon steel sheet is infused with an average silicon content of 6.5%.The magnetic properties have been improved,which can reach or exceed the level achieved in cold rolling directions in silicon steel sheet.

【关键词】 硅钢片PCVD法渗硅
【Key words】 silicon steel sheetPCVD methodinfusing silicon
  • 【文献出处】 武汉科技大学学报(自然科学版) ,JOURNAL OF WUHAN YEJIN UNIVERSITY OF SCIENCE AND TECHNOLOGY , 编辑部邮箱 ,2000年03期
  • 【分类号】TG15
  • 【被引频次】19
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