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热处理条件对溅射法制得的InSb薄膜特性的影响

Annealing Effect of Sputtered InSb Thin Films

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【作者】 关艳霞孙承松温作晓

【Author】 Guan YanXia Sun ChengsongWen Zuoxiao College of Information Engineering,Shenyang Technology University,Shenyang 110023

【机构】 沈阳工业大学信息学院!沈阳市110023

【摘要】 文中从理论和实验分析了热处理条件对溅射法制得的InSb薄膜特性的影响。热处理温度、时间和升降温速率都对薄膜特性有影响 ,通过实验得出了最佳的热处理温度、恒温时间和升降温速率。最后讨论了热处理过程中所采用的 3种保护膜

【Abstract】 Annealing effect of sputtered InSb thin films is described in the paper .InSb thin films properties are affected by thermostatic temperature,time and the rate of heating-up and cooling.By experiments the best temperature,time and the rate of heating-up and cooling are given.At last 3 protecting films on the InSb used in annealing are discussed.

【关键词】 InSb薄膜热处理工艺
【Key words】 InSb Thin filmAnnealingTechnique
  • 【文献出处】 仪表技术与传感器 ,INSTRUMENT TECHNIQUE AND SENSOR , 编辑部邮箱 ,2000年09期
  • 【分类号】TN305
  • 【被引频次】3
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