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金刚石薄膜场致发射的研究

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【摘要】 给出了以硅片和钼片作基底,在不同掺杂状态下的几种金刚石薄膜的发射特性和两种金刚石薄膜的扫描电子显微镜照片及喇曼光谱.测试结果表明,掺杂后的金刚石薄膜的发射电流密度可增大一个数量级

  • 【文献出处】 上海交通大学学报 ,JOURNAL OF SHANGHAI JIAOTONG UNIVERSITY , 编辑部邮箱 ,2000年01期
  • 【分类号】O484
  • 【被引频次】3
  • 【下载频次】56
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