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晶体生长过程中的抗干扰技术探讨

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【作者】 梁秀梅；

【机构】 西安理工大学!陕西西安710048；

【摘要】 针对晶体生长过程中所遇到的几种干扰 ,提出了在晶体生长设备设计和制造中需要注意的几个问题。

【关键词】 晶体； 抗干扰技术； 光电隔离； 整形处理； 容错纠错技术；
  • 【文献出处】 电子工业专用设备 ,Equipment For Electronic Products Manufacturing , 编辑部邮箱 ,2000年04期
  • 【分类号】TN305
  • 【被引频次】1
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