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多晶硅薄膜材料与器件研究进展

Progress in Research on Polycrystalline Silicon Film and Device

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【作者】 饶瑞； 徐重阳；

【Author】 Rao Rui Xu Zhongyang(Department of electronic science and technology .Huazhong university of science and techiiolgy .Wuhan 430074)

【机构】 华中理工大学电子科学与技术系； 华中理工大学电子科学与技术系 武汉 430074； 武汉 430074；

【摘要】 多晶硅薄膜材料一直在半导体领域中扮演着重要角色。综述了多晶硅薄膜材料及其器件的特点、制备方法及研究进展。

【Abstract】 Polycrystalline silicon film has played a dominant role in the area of semiconductor devices. Thecharacteristics , manufacturing methods, and progress in research on polycrystalline silicon film and device are reviewed.

【关键词】 多晶硅薄膜； 多晶硅薄膜器件； 应用；
【Key words】 polycrystalline silicon film.polystalline silicon film device； application；
  • 【文献出处】 材料导报 ,Materials Review , 编辑部邮箱 ,2000年07期
  • 【分类号】TB383
  • 【被引频次】12
  • 【下载频次】344
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