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有限长单位脉冲响应滤波器在电子束电源系统中的应用

APPLICATION OF A FIR FILTER IN POWER SUPPLY OF E BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM

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【作者】 尹明； 张玉林；

【Author】 Yin Ming Zhang Yulin (E beam Laboratory of shandong Polytechnic University,Shandong Jinan 250061)

【机构】 山东工业大学电子束科研室；

【摘要】 本文介绍了应用于亚微米电子束曝光机电源系统中的ＦＩＲ滤波器。在高稳定状态下提供严格的线性相位特性，使系统指标确保了０．１μｍ束斑的精度要求。

【Abstract】 The FIR filter used in the power supply of submicron E beam lithography system is described. It offers good linear phase characteristic with high stability,which ensure the system to have the precision 0.1μm of the beam spot.

【关键词】 电子束曝光机； 滤波器； 线性； 相位；
【Key words】 E beam lithography system； Filter； Linearity； phase；
  • 【文献出处】 微细加工技术 ,MICROFABRICATION TECHNOLOGY , 编辑部邮箱 ,1998年02期
  • 【分类号】TN713.1,TN86
  • 【被引频次】1
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