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电化学方法测定金属镀层孔隙度

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【作者】 马廷春； 温国谋； 方炳福；

【机构】 中国科学院福建物质结构研究所二部；

【摘要】 介绍了电化学方法测定金属镀层孔隙度的原理和最近发展。

【关键词】 孔隙度； 泄漏电流； 镀层；
  • 【文献出处】 表面技术 ,Surface Technology , 编辑部邮箱 ,1997年04期
  • 【分类号】O657.1
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