【作者】 辛煜； 范叔平； 宁兆元； 杨礼富； 薛青； 金宗明；
【机构】 苏州大学薄膜材料实验室； 苏州大学测试中心；
【摘要】 主要运用多弧离子镀技术研究了偏压对不锈钢基片上镀制的TiN膜层的影响,运用扫描电子显微镜(SEM),X-射线衍射仪(XRD)和附着力测定仪研究了膜表面的钛滴、针孔、膜的取向和临界载荷等性能。结果表明:低偏压下膜表面的针孔密度较小,高偏压下钛滴趋于细化。划痕试验表明:在150～200V偏压下膜层的临界载荷最佳。更多还原
