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薄层电阻测试Mapping技术

Mapping Technigue for Measurement of Sheet Resistance Distribution

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【作者】 孟庆浩； 孙新宇； 孙以材；

【Author】 Meng Qinghau;Sun Xingyu and Sun Yicai(Departmet of Electrical Engineering, Hebei University of Technology, Tianjin 300130 )Sun Bing(Tianjin Metnrological Research Institute, Tianjin 300192)Li Fulin(The Fouth Semiconductor Device Factory of Tianjin, Tianii

【机构】 河北工业大学电气工程系!天津； 300130；

【摘要】 利用改进的范德堡法微区薄层电阻测试探针技术对n-Si片上的硼扩散图形进行薄层电阻的测量，并用发度表示其分布，可得到薄层电阻的不均匀度及平均值．这种所谓Mapping技术更有利于评价材料质量．

【Abstract】 The microarea probe technique of a modified Van der pauw method is used for measuring the sheet resistance for the boron-doped microareas on an n-type silicon wafer.Its distribution is shown with the grey scale. From it, the variation of sheet resistance and the average value on the wafer can be obtained. The mapping technique seems to be more suitable to assess the material quality.

【关键词】 薄层电阻； Mapping； 测试图形； 测试探针； 范德堡法； 扩展电阻法； 微区； 不均匀度； 相邻单元； 焦耳热；
【基金】 国家自然科学基金!69272001;天津市重大成果
  • 【文献出处】 半导体学报 ,CHINESE JOURNAL OF SEMICONDUCTORS , 编辑部邮箱 ,1997年09期
  • 【分类号】TN407
  • 【被引频次】19
  • 【下载频次】251
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