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同步辐射辐照下Mo/Si,Pd/Si多层膜的稳定性

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【作者】 伍历文； 王兵； 刘文汉； 周凌云； 殷士龙； 田扬超； 胡一贯；

【机构】 中国科学技术大学基础物理中心； 中国科学技术大学结构分析开放实验室； 河海大学数理系； 中国科学技术大学国家同步辐射实验室； 中国科学技术大学国家同步辐射实验室 合肥230026； 合肥230026； 合肥230026 中国科学技术大学结构分析开放实验室； 南京210023； 合肥230026；

【摘要】 <正>随着众多同步辐射装置的建成和完善,软X射线光学得到迅速发展.由于同步辐射能量密度较高,可能使光束线上的插入元件温升很高.因为辐照对化学反应有促进作用,故此在同步辐射辐照下,作为反射、色散元件的人工周期性多层膜的稳定性是一个值得研究的问

【关键词】 多层膜； 同步辐射； 辐照； 稳定性；
【基金】 国家自然科学基金;合肥国家同步辐射实验室资助课题
  • 【文献出处】 科学通报 ,Chinese Science Bulletin , 编辑部邮箱 ,1995年08期
  • 【分类号】TB43
  • 【被引频次】1
  • 【下载频次】52
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