【作者】 吴家琨； 韩晶波； 孙良彦；
【机构】 吉林大学电子工程系；
【摘要】 复合膜高选择性ＣＨ＿４元件研制吴家琨，韩晶波，孙良彦（吉林大学电子工程系长春１３００２３）关键词表面修饰；催化层；选择性中图分类号ＴＰ２１２．２文章应用了表面修饰技术．在敏感材料的外面加一层催化层，使干扰气体在表面层被阻隔、吸收或反应．明显地提高了Ｓ...更多还原
