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金属离子缓冲溶液电位法的原理和应用──Ⅰ．络合物稳定常数的测定

DETERMINATION OF COMPLEX STABILITY CONSTANT BY METAL ION BUFFER SOLUTION POTANTIOMETRY Ⅰ. Determination of Complex Stability Constants

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【作者】 王洪英； 陈志斌； 方国春；

【Author】 Wong Hongying;Cheng Zhibing;Fang Guochun(Department of Chemisty,Wuhan University,Wuhan,China,430072)

【机构】 武汉大学化学系；

【摘要】 详细地讨论了金属离子缓冲溶液测定络合物稳定常数的原理和应用．用铜离子选择电极电位法测定了铜的络合物稳定常数，效果满意．

【Abstract】 Metal ion buffer solution has been discussed and used in determination of complex stability constants in detail. In experiment,copper ion-selective eletrode was used and the complex stability constants of copper ion with glycine,PAN,β-aline,H3cit and dipyridine were determined. The results are satisfied.

【关键词】 铜电极； 金属离子缓冲溶液； 稳定常数；
【Key words】 copper electrode； metal ion buffer solution； stability constant；
  • 【文献出处】 武汉大学学报(自然科学版) ,WUHAN UNIVERSITY JOURNAL(NATURAL SCIENCE EDITION) , 编辑部邮箱 ,1994年04期
  • 【分类号】O657.15
  • 【被引频次】1
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