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低弧度键合工艺的研究

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【摘要】 本文描述了集成电路制造中低弧度键合工艺的产生及特点,从金丝的认定、设备工艺的调整进行低弧度键合工艺试验。最后对低孤度键合工艺进行了总结。

  • 【文献出处】 微电子技术 ,Microelectronic Technology , 编辑部邮箱 ,1994年01期
  • 【分类号】TN405
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