【作者】 谢会开； 李卫； 许德华；
【机构】 北京理工大学电子工程系； 北京理工大学电子工程系 100081清华大学微电子研究所 100084； 100081； 100081；
【摘要】 本文介绍用于半导体器件制造的两种简易双面光刻技术:一种是单版式对准,另一种是双版式对准。文中还详述了双版式双面光刻的全套工艺。实验表明,这两种双面对准方法经济实用,单版式双面对准误差<15μ,双版式双面对准误差<3μ,其光刻图形符合工艺要求。更多还原
