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多弧离子镀中磁场对电弧运动影响的研究

EFFECT OF MAGNETIC FIELD ON THE MOTION OF ARC IN MULTI-ARC ION PLATING

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【作者】 王福贞； 周友苏； 唐希源； 袁哲； 张树林；

【Author】 Wang Fuzhen;Zhou Yousu;Tang Xiyuan;Yuan Zhe;Zhang Shulin Mechanical Engineering College of Beijing Union University Beijing Electric Furnace Works Northeast University of Technology

【机构】 北京联合大学机械工程学院； 北京电炉厂； 东北工学院；

【摘要】 多弧离子镀技术中的关键部件是蒸发源,蒸发源的电弧放电特性受磁场的严格控制。本文对真空电弧等离子体在磁场中的受力进行了分析,研究了磁场对电弧运动的影响规律。

【Abstract】 Evaporation sources are the key component in the multi-arc ion plating system. The arc-discharge fsature of the evaporation source is strictly controlled by a magnetic field. In thispaper, the effect of magnetic field on the vacuum arc plasma is aualyzed and the effectof magnetic field on 1he motion of arc is studied.

【关键词】 多弧离子镀； 电弧放电； 磁场线； 阴极电弧； 径向分量； 靶面； 场致电子发射； 阴极表面； 溅射清洗； 熔滴；
  • 【文献出处】 真空科学与技术 ,Vacuum Science and Technology , 编辑部邮箱 ,1991年03期
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