【作者】 陈英方； 吴知非；
【机构】 中国纺织大学应用物理教研室； 中国纺织大学应用物理教研室 上海200051； 上海200051；
【摘要】 本文介绍了近几年发展起来的一种新型离子注入技术——等离子体源离子注入（Ｐｌａｓｍａ Ｓｏｕｒｃｅｌｏｎ ｌｍｐｌａｎｔａｔｉｏｎ，简称 ＰＳＩＩ）——的原理、装置和应用．除可应用于半导体外，这一技术应可满足金属或非金属材料表面改性的需要．实践证明它是一种极有开拓前景的离子注入技术．更多还原
