【作者】 赵儒林； 范昌烈； 卓仁禧；
【机构】 武汉大学化学系； 武汉大学化学系 武汉 430072； 武汉 430072； 武汉 430072；
【摘要】 <正> 这个光重排反应在光敏高分子中的应用最近已有报道。我们利用这种光照后其水溶性发生变化的性质,合成了含吡啶鎓伊利德的水显影光致抗蚀剂。 合成路线如下:更多还原
