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BF2+分子离子注入硅中的硼原子深度分布的核反应分析研究

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【作者】 廖常庚； 郑志豪；

【机构】 兰州大学现代物理系； 兰州大学现代物理系；

【摘要】 <正> 分子离子注入半导体材料是一个有效的降低杂质原子能量,快速行成非晶层的有效方法。用BF2+分子离子注入硅中形成的浅结器件可能较B+原子离子注入更为有益。测定和研究BF2+分子离子注入硅后硼原子的深度分布,并与B+原子离子注入的深度

【关键词】 核反应分析； BF2； 离子注入； 深度分布； 硼原子； 杂质原子； 半导体材料； 晶层； 子离子； 投影射程；
  • 【文献出处】 科学通报 ,Chinese Science Bulletin , 编辑部邮箱 ,1989年10期
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