【作者】 吉田和夫； 石谷炯； 张淑芳；
【机构】 南昌航院；
【摘要】 <正> 1.前言离子注入法是在真空中将离子加速,然后注入固体表面层的方法。这种方法具有各种优良的特性,作为向半导体中掺杂元素的技术,在目前的电子工业中占有重要地位。70年代初期英国的 Harwell 研究所、美国海军研究所等部门首先将离子注入技术用于处理半导体以外的材料,例如用作金属等材料的改性处理。更多还原
