【作者】 康鸿业； 何平； 徐宝琨； 宋利珠； 赵慕愚；
【机构】 吉林大学； 吉林大学；
【摘要】 本文采用CVD技术制造x光管铜靶涂层。全面地研究了CuCl-H2-N2体系CVD过程的基本实验规律及各项工艺参数对涂层淀积速率、致密度、结合强度的影响,得到了制备铜靶涂层的最佳工艺。更多还原
