【作者】 柴璋； 李碧钦； 胡中波；
【机构】 中国科学技术大学研究生院； 中国科学技术大学研究生院；
【摘要】 本文综述了化学气相沉积(CVD)的发展和等离子体化学气相沉积(PCVD)的兴起。阐明了等离子体对化学气相沉积的增强作用及从70年代后期以来等离子体化学气相沉积法的进展和贡献,展望了用此法沉积生长薄膜材料的前景。更多还原
