【作者】 高启安;
【机构】 合肥工业大学应用物理系;
【摘要】 <正> 本文简要论述氢化非晶硅(α-Si:H)的特性。描述了我们的研制系统。给出了实验结果及本征α-Si:H GD法生长光电导的最佳条件点。即在基底温度为265℃、射频源一定功更多还原