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国外椭偏仪性能简介

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【作者】 冯长川；

【机构】 苏州半导体总厂；

【摘要】 <正>各种薄膜工艺参数和质量(厚度、折射率的数值及其均匀性等)的精确、快速测定和控制,在半导体器件生产、研制中有着极其重要的作用.现综合评述美国Rudolph研究公司应用材料公司、Gaertner科学公司和Sagax国际公司开发的从手动到自动椭偏仪系列的几代椭偏仪产品,并和其它薄膜厚度测量技术进行比较.

【关键词】 椭偏仪； 薄膜厚度； 性能简介； 线偏振光； 半导体器件； 椭圆偏振； 国际公司； 光学常数； 应用材料公司； 检偏器；
  • 【文献出处】 半导体技术 ,Semiconductor Technology , 编辑部邮箱 ,1987年06期
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