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高离子比强流Freeman离子源
【摘要】 <正> 离子源是离子注入机的核心部件之一,注入机的水平主要取决于离子源的性能,且通常以″B~+束流的大小来标志。目前国际先进的强流离子注入机″B~+的束流已达5mA,国内仅达到1.2mA。为适应国内半导体工业的需要。提高我国强流离子注入机的水平,我们研制了这台强流Freeman离子源。
- 【文献出处】 科学通报 ,Chinese Science Bulletin , 编辑部邮箱 ,1986年15期
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【摘要】 <正> 离子源是离子注入机的核心部件之一,注入机的水平主要取决于离子源的性能,且通常以″B~+束流的大小来标志。目前国际先进的强流离子注入机″B~+的束流已达5mA,国内仅达到1.2mA。为适应国内半导体工业的需要。提高我国强流离子注入机的水平,我们研制了这台强流Freeman离子源。