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激光诱导掺杂

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【作者】 周政卓； 李丁； 邱明新；

【机构】 上海市激光技术研究所； 上海市激光技术研究所；

【摘要】 <正> 本文用N型硅片置于充有BBr3蒸气的气室中,用308nm XeCl准分子激光垂直照射。BBr3在紫外激光作用下分解得硼原子,沉积在硅片表面,并在激光热量作用下在晶格中扩散,形成PN结。对该激光化学掺杂过程的激光剂量、掺杂深度以及光电池的光电流密度与电压的关系、光电灵敏度光谱特性等一系列主要特性进行了研究。

【关键词】 激光诱导； 紫外激光； 激光剂量； 垂直照射； 激光化学； 准分子激光； 光谱特性； 硼原子； 电流密度； 铝膜；
  • 【文献出处】 中国激光 ,Chinese Journal of Lasers , 编辑部邮箱 ,1986年09期
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