【作者】 朱一心; 黄焕文; 何喜冠; 杨建生; 宗庆; 余永雄; 贾京英;
【机构】 长沙半导体工艺设备研究所; 长沙半导体工艺设备研究所;
【摘要】 本文介绍一种可供聚焦离子束装置用的镓液态金属离子源。该离子源的亮度高、发射源尺寸极小、发射电流稳定、调节方便、没有气体负载,适用于各种超高真空装置,是进行微离子束技术和表面分析技术开发性研究的关键部件之一。更多还原