真空度对酞菁铜蒸发膜结晶形态的影响

【摘要】 <正> 前文我们已经报道了在10^-5乇（系数略,下同）下所得酞菁铜蒸发膜（α-型）的晶粒取向与分子束入射角的关系。本文介绍我们用x射线衍射、扫描电子显微镜等手段研究真空度对晶型及蒸发膜形态等影响的研究结果。文中特别注意了随着真空度下降,α-PcCu向光导性较好的X-PcCu的转变过程。实验表明,在10^-3—10^-6乇下所得的是α-型蒸发膜.在X射线粉末衍射图上,衍射峰峰位和相对强度与酸糊法所得的α-PcCu完全相同（图1a、b）。在10^-3—10^-6乇范围里蒸发膜的可见光谱图形与α-PcCu的也相同,主峰波数在16.2×10³cm^-1处,次峰波数约在14.5×10³cm^-1处（图2）。在乙醇-二溴乙烷体系的密度梯度管里（20.0℃）,10^-3至10^-6乇下所得蒸发膜的密度相同,为1.64lg/cm³,与酸糊法所得的α-PcCu的一样(图更多还原