【作者】 陈元富； 王绪彬； 何发松；
【机构】 西南应用磁学研究所； 西南应用磁学研究所；
【摘要】 利用干涉显微镜和指状畴技术研究了不同清洗工艺对石榴石薄膜缺陷的影响。提出了一种行之有效地消除石榴石薄膜表面助熔剂熔滴的新方法。更多还原
