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固体径迹探测器反冲核径迹电化学蚀刻装置

A device for electrochemical etching of recoil particle tracks in SSTD

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【作者】 谢云瑞; 朱天成;

【Author】 Xie Yunrui Zhu Tiancheng(Institute of Atomic Energy,Academia Sinica)

【机构】 中国科学院原子能研究所; 中国科学院原子能研究所;

【摘要】 <正> 用电化学蚀刻技术来显示快中子在聚合物内反冲核径迹获得了满意的效果。在参照文献的基础上,我们研制了一台电化学蚀刻装置。用它对180μm的聚碳酸酯膜进行了电化学蚀刻,研究了该装置在蚀刻过程中的电特性。

  • 【文献出处】 核技术 ,Nuclear Techniques , 编辑部邮箱 ,1982年01期
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