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硅表面SiO2薄膜中钠的沾污

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【作者】 谢宗钧； 李和炳； 阎增新；

【机构】 中国科学院半导体研究所； 中国科学院半导体研究所；

【关键词】 硅表面； SiO2； 离子微探针分析； 化学清洗； 干氧氧化； 中子活化； 热氧化； 电荷密度； 硅单晶； 氧化层；
  • 【文献出处】 物理 ,Physics , 编辑部邮箱 ,1980年05期
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