【作者】 杨兆祥；
【机构】 东北工学院鍊鉄教研室；
【摘要】 本文利用热力学方法分析了SiO的挥发。在高炉内温度超过1600℃的强还原区SiO可能大最挥发。燃烧焦点处虽然温度很高,但氧化气氛很强,故SiO不可能在此大量挥发。高压有助于接受高风温。高炉内Si可从SiO2及挥发的SiO中直接还原,炉温愈高愈有利于从SiO中还原。更多还原
