纳米氧化铈的制备及其抛光性能的研究-中国学术期刊网络出版总库

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纳米氧化铈的制备及其抛光性能的研究

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【英文篇名】	Preparation of nano-sized CeO_2 and its polishing performances
【下载频次】	★★★★★
【作者】	张鹏珍; 雷红; 张剑平; 施利毅;
【英文作者】	ZHANG Peng-zhen~1; 2; LEI Hong~1; ZHANG Jian-ping~2; SHI Li-yi~1; 2(1.Research Center of Nano-science and Nano-technology; Shanghai University; Shanghai 200444; China)(2.School of Sciences; China);
【作者单位】	上海大学纳米中心; 上海大学理学院; 上海大学纳米中心上海;
【文献出处】	光学技术 , Optical Technique, 编辑部邮箱 2006年 05期期刊荣誉：中文核心期刊要目总览 ASPT来源刊 CJFD收录刊
【中文关键词】	纳米CeO_2; 化学机械抛光; 玻璃基片;
【英文关键词】	nano-sized CeO_2; chemical-mechanical polishing(CMP); glass substrate;
【摘要】	采用溶胶-凝胶法制备了纳米CeO2粉体,并采用XRD、TOF-SIMS对其进行了表征。结果表明平均晶粒度在13.3nm,粒度分布均匀。进而研究了纳米CeO2在玻璃基片抛光中的抛光性能。ZYGO形貌仪表明,抛光后其表面平均粗糙度值(Ra)可降低到0.6nm左右。原子力显微镜(AFM)在5μm×5μm范围内测得基片表面粗糙度Ra值为0.281nm,表面光滑,划痕等表面微观缺陷明显改善。
【英文摘要】	With advanced electro-manufacture developing so fast,glass substrate as a kind of widely used material in the mechanical manufacture is forced to be ultra-smooth.Nano-sized CeO_2 was prepared by sol-gel method and characterized by X-ray diffraction and TOF-SIMS.It shows that the average particle diameter is 13.3nm and particle size distribution is uniform.The polishing performances of nano-sized CeO_2 on glass substrate were studied.ZYGO profiler indicated that the average roughness(Ra) of the surface was r...
【基金】	国家自然科学基金(50575131); 上海市纳米专项资助项目(0452nm013)
【更新日期】	2006-10-12
【分类号】	TB383.1
【正文快照】	0引言当今,随着先进电子技术正朝着高精度(控制精度趋于纳米级,加工精度趋于亚纳米级)、高性能、高集成度和高可靠性的方向迅猛发展,向机械制造极限提出了严峻的挑战,对加工精度和表面质量的要求越来越高。玻璃作为最普通及基本的无机材料,广泛应用于笔记本电脑硬盘玻璃基片、D

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