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等离子辅助镀膜技术  
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【英文篇名】 Plasma Ion Assisted Deposition for Optical Coating
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【作者】 贾克辉; 徐颖; 高劲松; 曹健林;
【英文作者】 JIA Kehui; XU Ying; GAO Jinsong; CAO Jianlin Fine Mechanics and Physics; Chinese Academy of Sciences; Changchun130022; China);
【作者单位】 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室光学技术中心; 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室光学技术中心 吉林长春 130022; 吉林长春 130022; 吉林长春;
【文献出处】 发光学报 , Chinese Journal of Luminescence, 编辑部邮箱 2002年 06期  
期刊荣誉:中文核心期刊要目总览  ASPT来源刊  中国期刊方阵  CJFD收录刊
【中文关键词】 等离子辅助沉积技术; 光学镀膜;
【英文关键词】 plasma ion assisted deposition; optical coatings;
【摘要】 传统的电子束蒸发工艺提供了高速率的沉积,但由于成膜分子的能量较低,使沉积的薄膜排列密度很低,其性能和块状材料区别很大,已有不少学者发现了很多金属和氧化物薄膜具有典型的柱状结构。薄膜的低排列密度造成了其光学常数和机械性能不如块状材料,近几年发展起来的高功率等离子体辅助镀膜技术解决了上述问题。本文报道了我国自己研制的等离子体源(GIS)的性能指标、用这个源所做的单层TiO2膜的成膜工艺与质量,以及用等离子辅助沉积的减反射膜的工艺。
【英文摘要】 Evaporation, the classical method of thin film deposition, is still commonly used for the production of optical coatings today. The technique of electron beam evaporation delivers a high rate of deposition. Three dimensional or curved substrates are also coated by ebeam evaporation in order to achieve good film thickness distribution. Because of the low energy of the condensing particles the packing density of thermally evaporated films is very low. The achieved film properties are quite different to t...
【基金】 中国科学院创新基金(ZJ00C04T)资助项目
【分类号】 TN205
【正文快照】 1 引  言薄膜科学技术是新材料发展前沿最活跃的领域之一[1~9],而良好的薄膜制备或改性技术则是赋于材料表面应用功能的基本条件。在薄膜制备技术中,有化学气相沉积技术(CVD)和物理气相沉积技术(PVD)。等离子辅助沉积技术与传统的沉积手段相比,利用等离子辅助不仅可?

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