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射频电源自动阻抗匹配器的开发和实验研究

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【英文题名】	Development and Experimental Research of the Auto Impedance Matcher in the RF Power
【作者】	张志;
【导师】	张以忱; 王庆;
【学位授予单位】	东北大学;
【学科专业名称】	流体机械及工程
【学位年度】	2008
【论文级别】	硕士
【网络出版投稿人】	东北大学
【网络出版投稿时间】	2010-11-30
【关键词】	阻抗匹配; 功率检测; 射频; MATLAB; PID;
【英文关键词】	impedance matching; power detection; radio frequency; MATLAB; PID;
【中文摘要】	随着射频技术进入镀膜工艺之后,射频匹配也随之成为需要解决的问题。射频电源的功率应尽可能的用于镀膜工艺中,系统的输入功率直接影响到等离子体的浓度和压力,也就直接影响了镀膜的质量,关系到工艺水平的好坏。在一定条件下,镀膜系统负载是随时间发生变化的,这使得阻抗的自动匹配变得更为必要。而国内现在都是以手动匹配为主,射频电源自动阻抗匹配器的发展是一个瓶颈。因此,自动匹配技术的研究有很重要的意义。本文以真空实验室的射频RF-500型射频等离子体增强CVD镀膜机相配套的射频电源阻抗匹配器RS-500为研究对象,对射频电源的手动阻抗匹配器的原理和设计进行研究,并把传入电表的信号传入计算机中进行自动控制,实现自动匹配。本文以功率检测模块的详尽设计和对系统建立的数学模型进行控制仿真为重点研究内容,结合功能较为完善、技术相对成熟的其他模块如传动模块、信号转换模块等的分析研究,提出了射频电源自动阻抗匹配器较为完善的设计方法,在总体结构设计原理上有一个相对完整的认识。本文电路的设计是基于匹配原理的,即随着镀膜过程中等离子体阻抗的变化,通过阻抗匹配器来实现整体传输电路的共轭阻抗匹配,使得入射功率始终达到最大,反射功率...
【英文摘要】	After radio frequency technology enters into coating technology, the problem of RF matching needs to solve. The power of RF power source should be used in the coating technology as possible as it can. Input power of system has an direct influence on concentration and pressure of plasma and the quality of coating,which has a relation with process level. In some condition, system load changes with time went by,which makes it necessary to have an auto impedance matching. But it is dominated by manual matching ...
【更新日期】	2011-03-17

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