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等离子体基低能氮离子注入AISI 316奥氏体不锈钢的半导体特性研究  
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【英文题名】 Semiconductor Properties of AISI 316 Austenitic Stainless Steel Modified by Plasma-based Low Energy Nitrogen Ion Implantation
【作者】 郭燕;
【导师】 雷明凯;
【学位授予单位】 大连理工大学;
【学科专业名称】 材料表面工程
【学位年度】 2011
【论文级别】 硕士
【网络出版投稿人】 大连理工大学
【网络出版投稿时间】 2011-07-30
【基金】 973项目;
【关键词】 AISI; 316奥氏体不锈钢; 等离子体基低能氮离子注入; γ_N相; 点蚀; 半导体特性;
【英文关键词】 AISI 316 austenitic stainless steel; Plasma-based low energy nitrogen ion implantation; γ_N phase; Pit corrosion-risistance; Semiconductor Properties;
【中文摘要】 采用等离子体基低能氮离子注入技术对AISI 316奥氏体不锈钢进行表面处理。利用X射线衍射仪(XRD)分析改性层的表面相结构；通过阳极极化曲线、电化学交流阻抗谱(EIS)和Mott-Schottky曲线测量技术研究改性层在3.5% NaCl溶液中的耐点蚀性能与其半导体特性的关系：并用ZsimpWin软件对EIS拟合,确定合适的模型,获得电极反应的动力学参数,探讨等离子体基低能氮离子注入AISI 316奥氏体不锈钢改性层的钝化膜的耐点蚀机理。研究结果表明： 等离子体基低能氮离子注入AISI 316奥氏体不锈钢表面形成单一的γN相改性层,在3.5% NaCl溶液中,阳极极化行为由原始AISI 316奥氏体不锈钢的自钝化-点蚀击穿过程转化为自钝化-过钝化溶解过程,γN相改性层未发生点蚀,自腐蚀电位提高64 mV,维钝电流密度降低一个数量级,具有优异的抗点蚀性能。等离子体基低能氮离子注入AISI 316奥氏体不锈钢在3.5% NaCl溶液中的等效电路模型为R(QR)(QR),与原始AISI 316奥氏体相比,γN相改性层的钝化膜电阻R1增大一倍,代表电容特性的Y0值降低,电极反应阻力增大,钝化膜的致密性显著...
【英文摘要】 The surface of AISI 316 austenite stainless steel is modified by Plasma-based low energy nitrogen ion implantation. The phase structure is researched by X-ray diffraction analyzes. The correlation of pitting corrosion resistance and semiconductor properties for modified layer in 3.5% NaCl solution is investigated by the measurement of anodic polarization curves, electrochemical impedance spectroscopy and Mott-Schottky curves; and a suitable model is chosen by the fitting analysis of ZsimpWin software, the m...
【更新日期】 2011-08-25

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