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计算机硬盘磁头的微加工工艺研究  
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【作者】 张宏坤;
【导师】 谭晓兰;
【学位授予单位】 北方工业大学;
【学科专业名称】 机械设计及理论
【学位年度】 2010
【论文级别】 硕士
【网络出版投稿人】 北方工业大学
【网络出版投稿时间】 2010-07-15
【基金】 北京市自然科学基金;
【关键词】 光刻; ICP刻蚀; 交替复合深刻蚀; 二级台阶刻蚀; 硬盘磁头滑块;
【英文关键词】 photolithography; ICP etching; TMED; two step etching; the slider of hard disk;
【中文摘要】 随着科学技术的发展,MEMS已成为当今的重要发展方向。实现MEMS和利用MEMS的重要途径之一就是微加工技术。本文主要对微加工技术中的光刻技术和ICP刻蚀技术进行了实验研究,并通过微加工实验加工出具有二级台阶的硬盘磁头滑块。 首先,对微加工技术的一些方法和原理进行了研究。微加工技术主要包括光刻技术和刻蚀技术。其中光刻主要包括掩膜版的设计制作、曝光、显影等主要技术,本课题对其分别进行了详细的论述和研究。刻蚀技术主要包括湿法刻蚀和干法刻蚀。湿法刻蚀是一种传统的纯化学刻蚀,虽然具有设备简单等优点,但是也有其缺陷。然后重点介绍了本课题中主要使用的感应耦合等离子刻蚀(ICP),接着研究了曝光时间和显影时间对光刻质量的影响,再通过单步反应离子刻蚀分析ICP刻蚀参数如何影响刻蚀的速率,并对具有高深宽比的模型进行了交替复合深刻蚀工艺实验。最后,根据多台阶刻蚀的技术要求,刻蚀出具有二级台阶的硬盘磁头滑块,并对其进行形貌分析。
【英文摘要】 With the development of science and technology, MEMS has become the important direction of development. The important way of achieve and use MEMS is micro-machining technology. In the paper, the major research object is photolithogrphy and ICP etching technology, and machined the slider of hard disk have two step. First, research the method and principle of micromachining technology. The micro-maching technology major include photolithography and etching technology. The photolithography includ...
【更新日期】 2010-08-10

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