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强流脉冲电子束处理纯镍的微观结构

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【英文题名】	Microstructure of Pure Nickel after High Current Pulsed Electron Beam Treatment
【作者】	程笃庆;
【导师】	关庆丰;
【学位授予单位】	江苏大学;
【学科专业名称】	材料学
【学位年度】	2008
【论文级别】	硕士
【网络出版投稿人】	江苏大学
【网络出版投稿时间】	2009-08-04
【关键词】	强流脉冲电子束; 纯镍; 微观结构; 表面纳米; 变形孪晶;
【英文关键词】	High current pulsed electron beam; bulk pure nickel; microstructure; surface nanocrystallization; deformation twins;
【中文摘要】	本文利用Nadezhda-2型强流脉冲电子束装置对纯镍进行表面改性处理。对HCPEB轰击纯镍表面的温度场进行了数值模拟,得到了温度场分布曲线,利用光学显微镜(OM)、扫描电镜(SEM)、X射线衍射(XRD)和透射电镜(TEM)等测试技术分析HCPEB处理后的表面显微形貌和微观组织结构变化。对表面温度场的模拟表明,材料近表层的温度已经超过了镍的熔点,HCPEB处理引起的热影响区深度约为30μm,熔化的开始时间为0.2μs,熔化开始的位置位于表面下方0.4μm。加热速率高达10~9K/s,冷却速率为10~7K/s量级。 HCPER处理后纯镍样品表面发生熔化现象,5次HCPEB轰击后表面重熔层的平均厚度约为1.6μm;处理表面上形成类似火山坑状的熔坑形貌,表面熔坑的数量密度与样品表面的缺陷密度密切相关,同时表面形成了尺寸极小的微孔,微孔是由于大量空位以位错和晶界为移动路径向表面迁移,在表面形成的空位累积所致。沿电子束入射方向将横截面组织分为重熔层、热影响区、应力作用区和基体。在表面重熔层出现纳米晶组织,晶粒大小约80nm左右,均匀分布在整个表面层,强流脉冲电子束...
【英文摘要】	In the present work,bulk pure nickel surface treatment was carried out with high current pulsed electron beam(HCPEB) equipment of type Nedazhda-2.Surface temperature field induced by HCPEB irradiation was simulated,temperature distribution profile gained.The changes of nickel surface morphologies and microstructure were characterized by optical microscope(OM),scanning electron microscope(SEM),X-ray diffractometry(XRD) and transmission electron microscope (TEM). Surface temperature field simula...
【更新日期】	2009-08-29

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导师：关庆丰导师单位：江苏大学学位授予单位：江苏大学
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