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硅提高冬小麦抗寒性的生物学机制研究  
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【英文题名】 Mechanisms of Silicon-Enhancement of Cold Tolerance in Winter Wheat Seedlings
【作者】 朱佳;
【导师】 娄运生; 梁永超;
【学位授予单位】 南京农业大学;
【学科专业名称】 植物营养学
【学位年度】 2006
【论文级别】 硕士
【网络出版投稿人】 南京农业大学
【网络出版投稿时间】 2007-01-08
【基金】 北京市自然科学基金
【关键词】 低温胁迫; ; 冬小麦; 光合作用; 活性氧清除系统; 膜脂过氧化; 超微结构;
【英文关键词】 Cold stress; Silicon; Winter Wheat; Photosynthesis; Active oxygen scavenging system; Lipid peroxidation; Ultrastructure;
【中文摘要】 本研究以抗寒性不同的两个小麦品种——扬麦5号(低抗)和临麦2号(高抗)为试验材料,采用水培法研究硅对低温胁迫下小麦幼苗的光合作用,叶绿素含量,活性氧自由基及其清除系统协调作用,渗透调节物质积累,以及叶绿体超微结构的效应。主要结果如下: 加硅处理显著提高小麦体内硅含量,低温胁迫条件下,高抗品种临麦2号体内硅含量显著高于低抗品种扬麦5号。 低温胁迫条件下,小麦幼苗的光合作用显著受到抑制,扬麦5号的下降速率要大于临麦2号。施硅能够提高低温胁迫条件下小麦幼苗净光合速率(Pn)、气孔导度(gs)、气孔限制值(Ls)、水分利用率(WUE);蒸腾速率(Tr)在低温胁迫条件下降低,加硅处理后蒸腾速率下降。低温胁迫条件下两个小麦品种的叶绿素含量和叶绿素a/b的比值下降,可溶性糖含量显著升高;施硅能减缓低温胁迫对叶绿素含量、Ch1 a/Ch1b比值和可溶性糖含量的影响。 低温胁迫下,两个供试品种H_2O_2含量上升,膜脂过氧化产物——丙二醛(MDA)的含量升高,细胞质膜透性增加。低抗品种增加的幅度或速度都明显大于高抗品种。加硅以后,上...
【英文摘要】 Two winter wheat (Tritium aestivum L.) cultivars, Linmai No.2 (resistant) and Yangmai No.5 (susceptible), were grown hydroponically to investigate the effects of exogenous silicon (Si) on photosynthetic and physiological parameters, chlorophyll content, active oxygen radicals, antioxidative defenses, and osmotic adjustment in cold-stressed wheat seedlings. The main results were presented as follows: Exogenous Si increased shoot Si content of both wheat cultivars with Si content being higher in Li...
【更新日期】 2007-02-02

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